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G-25D型高精密單面光刻機(LED)

簡介—— 一、 主要用途: 本設備是我公司專門針對各大專院校、企業及科研單位對光刻機的使用特性研發的一種精密光刻機,它 主要用于中

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一、 主要用途:

本設備是我公司專門針對各大專院校、企業及科研單位對光刻機的使用特性研發的一種精密光刻機,它 主要用于中小規模集成電路、半導體元器件、光電子器件、聲表面波器件的研制和生産。

二、 主要性能指标

1、曝光類型:單面;

2、曝光面積:150×150mm

3、曝光照度不均勻性:≤±3%

4、曝光強度:≤30mw/cm2可調;

5、紫外光束角:≤3˚;

6、紫外光中心波長:365nm

7、紫外光源壽命:≥2萬小時;

8、采用電子快門;

9、曝光分辨率:1μm

10、曝光模式:可選擇一次曝光或套刻曝光;

11、對準範圍:XY 調節 ±4mmQ向調節±3°;

12、套刻精度:1μm

13、分離量;050μm可調;

14、曝光方式:密着曝光,可實現硬接觸、軟接觸和微力接觸曝光;

15、找平方式:氣浮找平;

16、顯微系統:雙視場CCD系統,顯微鏡91X570X連續變倍(物鏡1.6X10X連續變倍),雙物鏡距離可調範圍50mm120mm,計算機圖像處理系統,19″液晶監視器;

17、掩模版尺寸:152×152mm

18、基片尺寸: 110×110mm;

19、基片厚度:≤5 mm

20、曝光定時:0999.9秒可調;

21、電源:單相AC220V  50HZ ,功耗≤1KW

22、潔淨空氣壓力:≥0.4MPa

23、真空度:-0.07MPa~-0.09MPa

24設備所需能源:

主機電源: 220V±10%   50HZ,1KW。

潔淨空氣≥0.4MPα。

真空:-0.07~-0.08MPα。

25.G-25D型高精密光刻機的組成:

LED紫外曝光頭、CCD顯微顯示系統、對準工作台、電氣控制系統構成。


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